一、日本專利、設計制度概要

 

日本特許廳(Japan Patent Office, JPO)^[1]座落於日本東京都，其為日本經濟產業省的下屬機構，主要負責工業財產權如：發明(特許)、新型(實用新型)、設計(意匠)的相關專利業務，且特許廳還擁有制定、修改、解釋《特許法》、《實用新型法》、《意匠法》及《商標法》之權利，並依法規受理、審查、公佈上述類型的申請案件。

特許廳係由總務部、審查業務部、審查第一至第四部及複審部組成，主要致力於積極推動日本產業之發展，其包含了下述六大重點：(1)適當授予工業財產權；(2)草擬工業財產權相關的措施；(3)增進國際調合與發展國家之援助；(4)適時審查、修正工業財產權法規；(5)實施針對中小企業及大學之補助措施；(6)改善、擴展公佈工業財產權相關訊息之服務。

圖1-1　特許廳組織圖

 

日本專利的歷史開始於明治時代，日本政府於1879年(明治12年)開始研究建立專利制度，之後在1885年(明治18年)成立專賣特許所(特許廳之前身)並訂定《壟斷專利條例》(《專利法》之前身)，該《壟斷專利條例》於1888年被《專利法》所取代，並於1909年進行修訂，於1959年(昭和34年)日本政府參考了多部國外專利法後對《專利法》進行全面修改，發布了《特許法》、《實用新型法》及《意匠法》，因此大部分的人認為日本的專利法是由此年開始的。

自1959年以來，日本專利法歷經了多次修正，最終於2015年3月13日發布了最後的修改版本，並於2015年7月10日開始施行至今；而於2019年，日本內閣會議通過了專利法部分修正案，並於同年3月1日向國會正式提交了該修正案，此次修改主要是針對《特許法》及《意匠法》進行修正，該些修法內容將於本段進行詳述。

另外，日本於1899年(明治32年)加入《保護工業產權巴黎公約》(Paris Convention for the Protection of Industrial Property，簡稱《巴黎公約》)^[2]，並於1987年(昭和62年)加入《專利合作條約》(Patent Cooperation Treaty，PCT)^[3]，日本政府依據上述條約制定相關的國際申請法律規程及特例。

 

(一) 專利的類型

日本專利分為特許、實用新型以及意匠三種，分別對應我國之發明專利、新型專利以及設計專利，下方將針對這三種專利進行說明：

1. 特許專利

利用自然界法則之技術思想的高度創作^[4]，對於欲解決之問題，使用適當的技術手段，產生特定功效以解決該問題之發明目的。因此，未利用自然法則的方案例如計算方法、遊戲規則或單純的發現等不予保護。特許專利的標的可大致分為物及方法兩大類，其中，物可進一步細分為物質和物品，物質是指無一定空間型態的物，如元素、化合物；而物品則是指有一定空間型態的物，如機械零件、電阻器；方法可以為物的製造方法、處理物的技術方法或者物的新用途等。

2. 實用新型專利

利用自然法則之技術思想的創作^[5]，其保護標的僅限於物品之形狀、構造或組合的創作，若為物之製造方法、操作手段或無一定空間形態的物質(如：元素、化合物)，則均不能申請實用新型專利。

3. 意匠專利

物品(包含物品之部分)之形狀、花紋或色彩或其結合，透過視覺可引起美感的創作^[6]，其保護標的還包含電腦圖像及圖形化使用者介面等圖像設計，但是純功能性之物品造型及純藝術創作則非意匠專利可申請之標的。另日本還有一種「秘密意匠制度」，只要額外繳交官方之規費，就可以在意匠登錄日起三年內，使其不公開而保持秘密的狀態。

表1-1　日本專利類型

專利類型	特許	實用新型	意匠
保護對象	利用自然法則之技術思想之高度創作	利用自然法則之技術思想的創作，且為物品之形狀、構造或其組合	物品(包含物品之部分)之形狀、花紋或色彩或其結合，透過視覺可引起美感者
實體審查	申請日起三年內，任何人可請求實體審查	不進行實體審查	由特許廳主動進行實體審查
權利期限	申請日起20年	申請日起10年	申請日起25年
國際優先權	最早優先權日起12個月內	最早優先權日起12個月內	最早優先權日起6個月內
年費	核准後繳納第1~3年年費，之後逐年繳納	申請時同時繳納第1~3年年費，之後逐年繳納	核准後繳納第1年年費，之後逐年繳納
其他		申請人可提出「技術評價書」的申請	申請人可提出「秘密意匠」的申請

※上表所述之申請日係以申請人臨櫃提交之日為準，若以郵寄寄送申請文件，則是以到達收貨處的日期為申請日，而非郵戳日期。

 

(二) 授予專利權的條件

1. 特許專利

(1) 屬於《特許法》中敘述的保護客體：利用自然界法則之技術思想的高度創作。

(2) 滿足專利三性[7]：

    I. 產業上的可利用性：可供產業上利用之發明。

    II. 新穎性：發明專利申請並非日本國內外公眾所知或公然被實施的發明，亦未被揭示於公開的刊行物或透過通信線路可被公眾利用的發明。

    III. 進步性：並非該發明專利申請所屬技術領域的通常知識者，可根據先前技術能輕易聯想到之發明。

(3) 未有妨害公共秩序、善良風俗或者公共衛生之虞。

(4) 非重複授權。

(5) 具備單一性。

(6) 充分公開且清楚揭露。

2. 實用新型專利

因不進行實質審查，故僅須通過基礎條件審查即可進行實用新型專利之登記，該基礎條件審查條件如下：

(1) 屬於《實用新型法》中敘述的保護客體：利用自然法則之技術思想的創作。

(2) 其保護標的為物品的形狀、構造或組合。

(3) 登記申請之流程、書面文件及費用繳交皆符合規定且未有妨害公共秩序、善良風俗或者公共衛生之虞。

(4) 具備單一性。

(5) 充分公開且清楚揭露。

3. 意匠專利

(1) 屬於《意匠法》中敘述的保護客體：物品(包含物品之部分)之形狀、花紋或色彩或其結合，透過視覺可引起美感者。

(2) 具備產業利用性、新穎性及創作性。

(3) 未有妨害公共秩序、善良風俗或者公共衛生之虞。

(4) 非重複授權。

(5) 並非是為了確保某功能特有的外觀設計。

 

(三) 不予專利權的因素

下方所述第1點之內容適用於特許、實用新型及意匠專利，而第2~4點則適用於特許及實用新型專利。

1. 有妨害公共秩序、善良風俗或者公共衛生之虞的發明^[8]

即使發明專利符合專利三性，但有上述之虞者，依法仍不得准予專利，然而因特許廳並未在《特許法》、《實用新型法》及《意匠法》中進一步詳述何謂「妨害公共秩序、善良風俗或者公共衛生」，亦未在專利審查基準中說明，但在2009年於日本東京舉辦之「專利審查基準規定及實務」研討會中，有針對「妨害公共秩序、善良風俗」及「妨害公共衛生」進行說明，其內容整理如下：

(1) 妨害公共秩序、善良風俗：專利本身或實施專利將違反公序良俗或一般道德觀念之情形，例如：毒品服、偽鈔製造機等。

(2) 妨害公共衛生：實施或使用專利將產生影響區域內人體健康或對人體產生危害之狀況，例如：碳疽熱之散佈法、病毒炸彈等。

2. 非使用自然法則創造之技術^[9]

(1) 自然法則之本身：如能量守恆定律，萬有引力定律。

(2) 單純之發現而非創造：如僅僅發現天然產物(如：礦石)。

(3) 違反自然法則：如永動機。

(4) 未使用自然法則之技術：

    I. 除自然法則以外的任何法律：如《經濟法》。

    II. 透過人為之活動：如遊戲本身的規則、使用遊戲規則的遊戲方法。

    III. 數學公式。

    IV. 人類的心理活動。

    V. 僅使用I.~IV.之技術：如開展業務之方法、將收集的總金額通過四捨五入到最近的10日元之方式收取電費/瓦斯費之方法。

(5) 非技術性思想：

    I. 技能(通過個人經驗獲得，由於缺乏客觀性故難以與他人分享之知識)：如一種投擲快速指叉球的方法，其特徵在於如何將球保持在手指中以及如何投擲球。

    II. 簡單的信息呈現(僅以所呈現信息的內容為特徵，其主要目的是信息的呈現)：如有關如何操作機器或如何使用化學品的手冊、一種音樂CD，其特徵僅在於記錄在其上的音樂、文書處理設備製作的運動會程序等。

    III. 單純之美學創作：如繪畫、雕刻。

(6) 明顯不可能通過請求項中所提出的任何方式來解決要解決的問題，例如：一種將具有較高熔化溫度的物質(例如鎢)來包覆中子吸收材料(例如硼)球，並將它們投入火山口中來防止火山爆炸的方法。然而，本發明係建立在假設火山爆發是由火山口底部的鈾等核裂變物質所引起的狀況下。

3. 不符合產業利用性之發明類型^[10]

(1) 手術，治療或診斷人的方法：

    I. 人類手術的方法：如人體手術治療方法(包括切開，切除，穿刺，注射，植入等)；在人體內使用裝置(如導管或內窺鏡)的方法(如插入，移動，維護，操作和取出)，但不包括口腔，外鼻孔和外耳道處；手術的準備治療階段(如手術麻醉方法，注射處的消毒方法)。

    II. 人類的治療方法：如向患者施用藥物，物理療法等用以減輕和控制疾病的方法、植入替代器官的方法(如人造內臟器官或假肢)、疾病預防方法(如齲齒預防方法，防寒方法)、維持人體健康的治療方法(如按摩、指壓方法)、治療的初步治療方法(如放置電療用的電極的方法)、增加治療效果的輔助治療方法(如功能恢復訓練/復健方法)及與治療相關的護理方法(如預防褥瘡的方法)。

    III. 人類診斷方法：人體診斷方法包括根據醫學目的判斷人體的身體狀況的方法，如診斷疾病和身體健康狀況或人體的精神狀況，以及基於該診斷的處方或治療/手術計劃。

(2) 商業上不適用的發明：如僅適用於個人用途的發明(如吸煙方法)、僅適用於學術或實驗目的的發明。

(3) 無法據以實現的發明：理論上可以實現但在實際上不可能應用的發明，如一種用紫外線吸收塑料薄膜覆蓋整個地球表面的方法，以防止由於臭氧層耗盡而增加地表所接收到的紫外線。

4. 操作人類遺傳資源^[11]

例如：透過基因工程產生之人類。

 

(四) 2019年後相關修法內容

1. 2019年之修法

2019年1月28日，日本政府召開了第198次國會，而在同年3月1日，日本內閣會議通過了專利法部分修正案，並向國會正式提交了該修正案，此次修法的重點在於工業財產權相關之訴訟制度的改善以及意匠制度的強化，以下將針對《特許法》及《意匠法》之修正內容進行介紹^[12]。

(1) 特許法之修正

此次針對《特許法》之修正重點主要在於充實其訴訟制度，包括：於侵權判斷之過程中增設了查證制度，藉由立場中立的技術專家進行侵權行為之查證，以協助法院進行侵權判斷；當確認有侵權情事時，提高了侵權賠償額度的範圍。

    I. 查證制度之建立：當發生有可能造成侵害特許權(發明權)的情況下，透過中立的技術專家到侵權嫌疑行為人的工廠或發生侵權行為之現場，進行特許權侵害舉證的調查，之後向法院提出該侵權舉證之報告書。

    II. 修改損害賠償計算方法：根據侵權行為人販賣的侵權產品數量中超出特許權者(專利權人)的生產能力的部分，則視為是特許權人授權給侵權行為人進行製造及/或販賣，得以用相當於授權金的金額來估算超出特許權者的生產能力的部分之損害賠償額，藉此為中小企業和風險企業提供足夠的補償。

上述修正後的侵權損害賠償額之計算方法，於《實用新案法》、《意匠法》以及《商標法》中皆有相同之修正內容。

圖1-2　修法後之損害賠償範圍

 

(2) 意匠法之修正

    I. 擴大保護對象：其保護對象由圖像記錄或顯示在物品的圖像擴大至物品中未記錄、未表示的圖像或建築物外觀、室內設計(裝潢)的設計等，以因應網路雲端服務及物聯網之發展現況，因於網路發達之社會中，圖像設計將不只侷限在特定物品之上，且修法前的《意匠法》將其保護之對象限縮於動產之物品，然而，建築物外觀、室內設計之設計不僅可以突顯商家店面之獨特性，甚至還可衍生出品牌形象，故此次修法也將不動產之設計納入了保護範圍。

其中，該建築物之設計保護範圍不僅僅侷限在單一棟的建築物，此次修法還將複數建築物之組合(如：學校、商業用建築)一併納入其保護範圍。

    II. 關聯意匠制度的修正：提交關聯設計(関連意匠)的申請期限從原本主設計(本意匠)的註冊日起8個月內，延長至主設計申請日(出願日)起10年內，使得同一人能在較長的期限內，對於複數個相近的設計進行申請，可視為放寬先申請原則要件的特殊態樣。

其中，該關聯設計也由僅限於與主設計相關聯的設計放寬至與其他關聯設計相近而與主設計不近似之關聯設計。

圖1-3　修法後，申請複數關聯設計之關係圖

 

    III. 變更意匠權的存續期間：意匠權之存續期間由自登錄日起算20年延長至自申請日起算25年。

    IV. 簡化意匠登錄申請之手續：允許多個意匠於同一申請書中一起申請，然而此修正僅係程序上之簡化，於意匠申請過程進行實體審查或意匠登錄時，仍是針對該多個意匠單獨進行。

此次修正還廢除了物品的分類，使意匠專利能更有彈性地描述物品的名稱。

圖1-4　修法前，多個意匠之申請方式

 

圖1-5　修法後，多個意匠之申請方式

 

    V. 擴大間接侵權的涵蓋範圍：將「以迴避為目的刻意將侵權品分成各構件進行製造與輸入」的作法，視作間接侵權之行為，藉此防止極有可能導致侵權之不法行為。

2. 2021年之修法

2021年3月2日，日本政府召開了第204次國會，日本內閣會議上決定了《專利法部分修正案》，而在同年5月14日被國會正式通過，此次修法的主因是為了因應2021年新冠病毒的擴大，對電子(數位)化、遠距及非接觸型等經濟活動的運作方式帶來的轉變，因而修改部分條文之內容；以下將針對《特許法》及《意匠法》之修正內容進行介紹^[13]。

(1) 改善數位化手續程序

    I. 行政救濟程序的口頭審理線上化：以往專利無效審判的審理程序，都需要當事人到場進行口頭審理，而此次修法後，可在審判長認可的前提下，允許當事人以視訊會議方式進行口頭審理之程序。

    II. 廢除及修改部分專利規費：在特許廳繳納專利規費時，需要透過購買等額的特許印紙來進行繳納，此次修法後，廢除該特許印紙之規定，且規費可使用銀行匯款或臨櫃使用信用卡支付。

    III. 意匠專利及海牙設計專利申請程序之電子化：為簡化程序，將意匠專利及海牙設計專利申請案的授權通知書，改以國際機構的電子方式進行遞送，取代以往郵寄的方式，藉此因應因新冠病毒蔓延時，暫時停止服務的郵寄業務。

    IV. 新增專利規費逾期繳納時，免除追加費用之時限：若受新冠病毒疫情擴大或天災等非人為因素影響，導致逾期繳納專利規費時，於修法後，可免除在一合理期間內的追加費用。

(2) 因應企業數位化轉型的變化，對其權力保護制度的修正

    I. 增加侵權行為之態樣：為因應與日俱增的以私人使用目的為由進口仿冒品之情形，於修法後，當外國企業透過郵寄等方式進口仿冒品的行為，將被視為侵犯商標權，

    II. 改善授權專利之修正程序：因數位技術發展而使得專利權授權的形式日趨複雜，因此於修法後，當專利權人要對非專屬授權專利提出更正申請時，將不再需要被授權人(獲許可人)的同意。

    III. 放寬恢復失效專利權的條件：因未按期辦理相關手續而導致專利權失效之專利，將放寬其恢復權利的條件。

(3) 強化智慧財產權制度的基礎

    I. 於專利侵權訴訟中，導入法院可以擴大徵求第三方意見之制度，並允許專利代理人在該制度中提供諮詢。

    II. 重新調整專利規費：為因應與日俱增的審查負擔及進行各項手續電子化(數位化)所產生的費用，將調整專利規費，以維持特許廳的收支平衡。

    III. 專利代理人制度之改善：研擬增加能以專利代理人名義開展的農林水產相關的智慧財產權(植物的新品種及地理標誌)諮詢等業務，以及變更法人名稱與導入一人法人制度等措施。

3. 2022年之修法

日本特許廳於2022年2月10日公布了修正草案之資訊，其中修訂了《特許法》及《特許法施行細則》之部分內容，並於2022年4月1日生效，其相關修法內容如下：

(1) 限制多項附屬項之依附關係

此次修法於《特許法施行細則》中，新增一項規定：「當一請求項以選擇方式依附兩項以上之其他請求項時，所依附之請求項皆不得以選擇方式依附兩項以上之其他請求項。」，即與本國專利法第26條第4項暨其施行細則第18條第5項之規定相同，一多項附屬項不能直接或間接依附於多項附屬項，現舉一例進行說明：一專利案(特許案)共有7項，其中只有請求項1為獨立項；請求項2、3皆依附於請求項1；請求項4為多項附屬項，依附請求項1~3；請求項5依附請求項4；請求項6為多項附屬項，依附請求項1~4；請求項7為多項附屬項，依附請求項5、6。

其中請求項4、6、7為多項附屬項，而請求項4依附之請求項皆非多項附屬項，故請求項4符合規定；請求項6直接依附到了多項附屬項的請求項4，故請求項6不符合規定；請求項7因依附到了請求項5，而請求項5依附到多項附屬項的請求項4，故為間接依附，亦不符合規定。

(2) 可在特許廳之窗口使用信用卡進行繳費：以往專利權人只能於線上付款使用信用卡進行繳費，現今已調整為在特許廳之專利申請窗口也可選擇使用信用卡繳納相關之專利規費。

(3) 對專利權(特許/實用新型/意匠)之放棄程序，不需經過非專屬受權人的同意，但仍需專屬授權人或值權人之同意。

[1]日本特許廳，https://www.jpo.go.jp/，最後瀏覽日：2021年5月6日。

[2]《保護工業財產權巴黎公約》，https://www.wipo.int/treaties/en/text.jsp?file_id=288514，最後瀏覽日：2021年5月6日。

[3]《專利合作條約》，https://www.wipo.int/pct/en/texts/articles/atoc.html，最後瀏覽日：2021年5月6日。

[4]特許法第二條，定義https://elaws.e-gov.go.jp/search/elawsSearch/elaws_search/lsg0500/detail?lawId=334AC0000000121，最後瀏覽日：2021年5月6日。

[5]實用新型法第二條，定義https://elaws.e-gov.go.jp/search/elawsSearch/elaws_search/lsg0500/detail?lawId=334AC0000000123，最後瀏覽日：2021年5月6日。

[6]意匠法第二條，定義https://elaws.e-gov.go.jp/search/elawsSearch/elaws_search/lsg0500/detail?lawId=334AC0000000125，最後瀏覽日：2021年5月6日。

[7]特許法第二十九條，專利的要件https://elaws.e-gov.go.jp/search/elawsSearch/elaws_search/lsg0500/detail?lawId=334AC0000000121，最後瀏覽日：2021年5月6日。

[8]特許法第三十二條，不能獲得專利的發明https://elaws.e-gov.go.jp/search/elawsSearch/elawssearch/lsg0500/detail?lawId=334AC0000000121，最後瀏覽日：2021年5月6日。

[9]特許、實用新行審查基準，第III部第1章第2.1節https://www.jpo.go.jp/system/laws/rule/guideline/patent/tukujitu_kijun/document/index/03_0100.pdf，最後瀏覽日：2021年5月6日。

[10]特許、實用新行審查基準，第III部第1章第3.1節https://www.jpo.go.jp/system/laws/rule/guideline/patent/tukujitu_kijun/document/index/03_0100.pdf，最後瀏覽日：2021年5月6日。

[11]特許、實用新行審查基準，第III部第5章https://www.jpo.go.jp/system/laws/rule/guideline/patent/tukujitu_kijun/document/index/03_0500.pdf，最後瀏覽日：2021年5月6日。

[12]專利法部分修法概述，https://www.jpo.go.jp/system/laws/rule/hokaisei/tokkyo/document/tokkyohoutou_kaiei_r010517/01.pdf，最後最後瀏覽日：2021年5月6日。

[13]專利法部分修法，https://www.jpo.go.jp/system/laws/rule/hokaisei/tokkyo/tokkyohoutou_kaiei_r030521.html，最後最後瀏覽日：2021年6月7日。